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PS版與膠印印版制作(曬版)

2010-08-25 09:15 來源:咱廣告人自  責編:Sunny

  【CPP114】訊:一.PS版(版材)的分類、結構及性能
  

  1. PS版材的分類:

  ——陽圖型PS版:用陽圖分色片進行曬版的PS版,其感光膜在紫外線照射下產生光分解反應。

  ——陰圖型PS版:用陰圖分色片進行曬版的PS版, 其感光膜在紫外線照射下產生光聚合反應。

  分為版基、氧化層、感光膜層

  2.PS版材的結構:

  ——版基:鋁金屬版基。通常有0.25mm、0.15mm兩種厚度。

  ——氧化層:即親水層,是通過陽極氧化和封孔工藝,

   在版基一側形成多孔、堅硬的氧化層。有較強的耐磨、耐蝕、吸水性。

  ——感光膜層:即親油層,由感光劑(氮醌化合物)、成膜性樹脂、染料、溶劑等組成。

  3.PS版主要性能指標:

  ——表面粗糙度:0.40≤Ra ≤0.90(um)

  ——版基面氧化層質量:1.50 ~3.50(g/m² )

  ——版基面感光層質量:1.60~2.50 (g/m² )

  ——分辨率:≤10.0(um)

  ——網點再現范圍:2%~98% 網點齊全

  ——版基底色密度:≤0.03

  ——感光度: ≤300 (mj/cm² )

  ——留膜率:≥90%

  ——印版厚度:0.15~0.40mm(厚度偏差?0.01mm)

  ——印版尺寸:符合GB/T 17155-1997

  ——耐印力:未定

  注:影響印版耐印力的主要因素

 、貾S版感光膜附著力

 、诜稚瑢嵉孛芏

  ③印刷壓力

 、芗垙埡s質(砂粒)量

 、轁櫚嬉篜h值

  二.膠印印版制作(曬版)工藝流程
  
  分色片輸出→曝光→顯影→修版→后處理→印刷

  ——曝光:是把分色片與PS版藥膜面緊密接觸,用紫外線光源(如碘鎵燈)(光譜范圍約360~430毫微米)進行曝光。

  ——顯影:是把(經曝光)產生光分解反應的(非印刷區域)感光膜,在稀堿溶液中溶解,露出氧化(親水)層。

  ——修版:把經水洗后的印版,用除臟劑(由相關溶劑、增濃劑、染料、潤濕劑等組成)進行修版除臟作業。

  ——后處理:包括烘干、烤版、提墨、擦膠等。
 
  ·烤版:主要是為了提高印版的耐印力。在230℃~250℃溫度下烤版5~8分鐘。

  ·提墨:為提高版面圖文部分的反差(便于檢查)、保護圖文印刷部分的感光膜不受光的損害、增加印版的吸墨性,在版面涂以提墨劑。

  ·擦膠:為保護制作好的印版,防止氧化和灰塵污染,在版面涂擦護版膠(如阿拉伯樹膠)。

  三. 對分色片質量的要求

  ——片基灰霧密度≤0.15

  ——實地密度≥3.50

  ——通透性:網點透明部分密度(不包括片基) ≤0.10

  ——網點邊緣寬度≤網線寬度/40(um)

  ——軟片線性化誤差≤±2%

  ——套準誤差(對角線)≤0.02%

  ——版面清潔、無劃痕、折痕等。






 

  
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